Computer Modelling of Plasma Processes andTransport for Selected Applications

Počítačové modelování procesů v transportu v plazmatu pro vybrané aplikace

Zobrazit/otevřít

Text práce (21.72Mb)

Abstrakt (149.3Kb)

Abstrakt (anglicky) (149.3Kb)

Posudek vedoucího (209.3Kb)

Posudek oponenta (392.5Kb)

Posudek oponenta (202.7Kb)

Záznam o průběhu obhajoby (294.6Kb)

Trvalý odkaz

http://hdl.handle.net/20.500.11956/188647

Identifikátory

SIS: 43349

Kolekce

• Kvalifikační práce [11242]

Autor

Havlíčková, Eva

Vedoucí práce

Hrach, Rudolf

Oponent práce

Stöckel, Jan

Novák, Rudolf

Fakulta / součást

Matematicko-fyzikální fakulta

Obor

Matematické a počítačové modelování

Katedra / ústav / klinika

Katedra fyziky povrchů a plazmatu

Datum obhajoby

17. 12. 2009

Nakladatel

Univerzita Karlova, Matematicko-fyzikální fakulta

Jazyk

Angličtina

Známka

Prospěl/a

Citace dokumentu