Studium heteroepitaxe kovů na povrchu Si(100)2x1 pomocí STM

STM study of metal heteroepitaxy on the Si(100)2x1 surface

Zobrazit/otevřít

Text práce (10.18Mb)

Abstrakt (79.16Kb)

Abstrakt (anglicky) (79.16Kb)

Posudek vedoucího (285.7Kb)

Posudek oponenta (253.0Kb)

Záznam o průběhu obhajoby (144.6Kb)

Trvalý odkaz

http://hdl.handle.net/20.500.11956/4774

Identifikátory

SIS: 42117

Kolekce

• Kvalifikační práce [11218]

Autor

Javorský, Jakub

Vedoucí práce

Ošťádal, Ivan

Oponent práce

Hrach, Rudolf

Fakulta / součást

Matematicko-fyzikální fakulta

Obor

Fyzika povrchů a ionizovaných prostředí

Katedra / ústav / klinika

Katedra fyziky povrchů a plazmatu

Datum obhajoby

22. 5. 2006

Nakladatel

Univerzita Karlova, Matematicko-fyzikální fakulta

Jazyk

Čeština

Známka

Výborně

Citace dokumentu