Diagnostika plazmatu s vysokou ionizací při PVD depozici tenkých vrstev.

Diagnosties of highly ionized plasma during PVD thin film deposition.

Zobrazit/otevřít

Text práce (21.01Mb)

Abstrakt (149.3Kb)

Abstrakt (anglicky) (149.3Kb)

Posudek vedoucího (256.7Kb)

Posudek oponenta (219.1Kb)

Záznam o průběhu obhajoby (145.1Kb)

Trvalý odkaz

http://hdl.handle.net/20.500.11956/9321

Identifikátory

SIS: 42402

Kolekce

• Kvalifikační práce [11264]

Autor

Jílek, Mojmír

Vedoucí práce

Tichý, Milan

Oponent práce

Hrachová, Věra

Fakulta / součást

Matematicko-fyzikální fakulta

Obor

Fyzika povrchů a ionizovaných prostředí

Katedra / ústav / klinika

Katedra fyziky povrchů a plazmatu

Datum obhajoby

18. 5. 2007

Nakladatel

Univerzita Karlova, Matematicko-fyzikální fakulta

Jazyk

Čeština

Známka

Velmi dobře

Citace dokumentu