Studium nesených nespojitých bimetalických vrstev a jejich interakce s molekulami plynů
The study of gas molecule interaction with supported noncontinuous bimetallic films
Studium nesených nespojitých bimetalických vrstev a jejich interakce s molekulami plynů
diploma thesis (DEFENDED)
View/ Open
Permanent link
http://hdl.handle.net/20.500.11956/9355Identifiers
Study Information System: 42406
Collections
- Kvalifikační práce [11244]
Author
Advisor
Referee
Veltruská, Kateřina
Faculty / Institute
Faculty of Mathematics and Physics
Discipline
Physics of surfaces and ionized media
Department
Department of Surface and Plasma Science
Date of defense
18. 5. 2007
Publisher
Univerzita Karlova, Matematicko-fyzikální fakultaLanguage
Slovak
Grade
Excellent
V předložené práci jsme deponovali vrstvy vanadu a rhodia o tloušťce zlomku monovrstvy až několika monovrstev na polykrystalickou podložku -Al2O3. Připravené vzorky se lišily v poměru zastoupení obou kovů a v pořadí jejich depozice. Po depozici byly vzorky ohřívány a byla studována jejich interakce s molekulami CO a O2. Po každém experimentálním kroku (depozice, ohřev, adsorpce či desorpce plynů) byly vzorky proměřeny metodou XPS. Ke studiu interakce plynů s povrchem (adsorpce a desorpce ) byly použity metody Molekulárních svazků (MB) a Teplotně stimulované desorpce (TDS). Podobně byl studován i bimetalický systém vanadu deponovaného na polykristalickou fólii Rh a růst vanadu na polykrystalické podložce -Al2O3.
We deposited several submonolayer films of rhodium and vanadium onto polycrystalline -Al2O3 substrate. Prepared samples were different in ratio of deposited amount of rhodium and vanadium. XPS spectra of surface were measured after every particular step of metal deposition, sample annealing and CO, oxygen adsorption. Adsorption and temperature stimulated desorption of gas molecules were performed using Molecular Beam and Thermo Programmed Desorption methods. Furthermore, we studied a bimetallic system prepared by deposition of vanadium onto polycrytalline Rh foil and growth of vanadium on -Al2O3.