Studium vlastností heterostrukturních tenkých vrstev křemíku s nanometrovým rozlišením

Studium vlastností heterostrukturních tenkých vrstev křemíku s nanometrovým rozlišením

Zobrazit/otevřít

Text práce (51.01Mb)

Abstrakt (38.86Kb)

Abstrakt (anglicky) (30.47Kb)

Posudek vedoucího (502.9Kb)

Posudek oponenta (118.1Kb)

Záznam o průběhu obhajoby (106.4Kb)

Trvalý odkaz

http://hdl.handle.net/20.500.11956/40438

Identifikátory

SIS: 116503

Kolekce

• Kvalifikační práce [11266]

Autor

Hakl, Michael

Vedoucí práce

Fejfar, Antonín

Oponent práce

Ošťádal, Ivan

Fakulta / součást

Matematicko-fyzikální fakulta

Obor

Obecná fyzika

Katedra / ústav / klinika

Katedra fyziky kondenzovaných látek

Datum obhajoby

19. 6. 2012

Nakladatel

Univerzita Karlova, Matematicko-fyzikální fakulta

Jazyk

Angličtina

Známka

Výborně

Klíčová slova (česky)

silikonové tenké vrstvy, nanokrystaly, mikroskopie atomárních sil, fotovodivost

Klíčová slova (anglicky)

silicon thin films, nanocrystals, atomic force microscopy, photoconductivity

Citace dokumentu